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    拋光后CMP清洗臺
    產(chǎn)品型號:CGB
    產(chǎn)品代碼:
    產(chǎn)品價格:
    折 扣 率: 0
    最后更新:2013-06-06
    關(guān) 注 度:3822
    生產(chǎn)企業(yè):北京華林嘉業(yè)科技有限公司
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    產(chǎn)品詳細(xì)介紹拋光后CMP清洗臺
    1、制程應(yīng)用:拋光后制程(單面、雙面);
    2、清洗制程;
    3、控制模式:手動控制模式、自動控制模式;
    4、適用對象:藍(lán)寶石襯底晶片
    4.1襯底晶片規(guī)格:2 inch,25 Pcs/cassette;
                     8cassette/ Batch  Or  4 inch,25Pcs/cassette;
                     4 cassette/ Batch Or 6 inch,25 Pcs/cassette;
                     2cassette/ Batch ;
    5、工作原理:是利用酸的化學(xué)去污作用和兆聲清洗微小顆粒使工件表面的雜質(zhì)的清除,從而獲得表面潔凈的工件;
    北京華林嘉業(yè)科技有限公司
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